A Intel está confiante na produção em massa da Intel 4, com instituições alegando que seu desempenho é 3 nm maior que o do TSMC
De acordo com o relatório de telec, a Intel expressou confiança na produção em massa da Intel 4 (nível de 7nm).A Intel 4 é o primeiro caso de aplicação de extremo ultravioleta (EUV) na tecnologia Intel.De acordo com o conhecimento da CI, uma instituição especializada em engenharia reversa, o desempenho dos produtos de processo Intel 4 é superior ao processo de 5NM da TSMC e semelhante ao processo de 3NM existente.
Em 22 de agosto, em uma entrevista coletiva realizada em Penang, Malásia, William Grimm, diretor (vice -presidente) da Engenharia de Produtos de Tecnologia e Desenvolvimento da Intel Logic, declarou: "Através da EUV, podemos controlar a complexidade do processo
A Intel 4 é o primeiro caso de aplicação EUV na tecnologia Intel, e o meteoro lago CPU Tile planejado ser lançado em setembro deste ano é um produto produzido pela Intel 4. A indústria espera que, devido ao lançamento tardio de EUVs em comparação com os concorrentes,Haverá questões como rendimento.
Em relação à comparação de desempenho com as fundições concorrentes, William Grimm afirmou que "projetamos nosso próprio PPA (desempenho, consumo de energia, área) com base em benchmarks externos" e afirmamos que "é difícil comparar o Intel 4 com os nós existentes em outras fundições
De acordo com o conhecimento da IC da empresa de engenharia reversa, o desempenho do processo Intel 4 é semelhante ao Samsung Electronics 3NM e TSMC 3NM.Isso significa que a integração do transistor é maior do que os processos de 3 nm de outras empresas.A Intel criticou anteriormente que o nome do processo é diferente do comprimento real do transistor do semicondutor.
William Grimm apresentou que o nó Intel 4 é um processo que coloca ênfase especial na eficiência de energia.Ele explicou: "Se o processo Intel 7 estiver focado em maximizar o desempenho, este Intel 4 está focado em melhorar a eficiência de energia e é adequado para aplicações como laptops
Finalmente, William Grimm afirmou que "há garantia suficiente de (capacidade de produção da EUV) para atender à demanda do mercado" e "os planos para os próximos anos, como a Intel 3, foram determinados".A Intel 3 adotará o processo de 4 nm e está programado para ser lançado no segundo semestre deste ano.
A Intel 4 é o primeiro caso de aplicação EUV na tecnologia Intel, e o meteoro lago CPU Tile planejado ser lançado em setembro deste ano é um produto produzido pela Intel 4. A indústria espera que, devido ao lançamento tardio de EUVs em comparação com os concorrentes,Haverá questões como rendimento.
Em relação à comparação de desempenho com as fundições concorrentes, William Grimm afirmou que "projetamos nosso próprio PPA (desempenho, consumo de energia, área) com base em benchmarks externos" e afirmamos que "é difícil comparar o Intel 4 com os nós existentes em outras fundições
De acordo com o conhecimento da IC da empresa de engenharia reversa, o desempenho do processo Intel 4 é semelhante ao Samsung Electronics 3NM e TSMC 3NM.Isso significa que a integração do transistor é maior do que os processos de 3 nm de outras empresas.A Intel criticou anteriormente que o nome do processo é diferente do comprimento real do transistor do semicondutor.
William Grimm apresentou que o nó Intel 4 é um processo que coloca ênfase especial na eficiência de energia.Ele explicou: "Se o processo Intel 7 estiver focado em maximizar o desempenho, este Intel 4 está focado em melhorar a eficiência de energia e é adequado para aplicações como laptops
Finalmente, William Grimm afirmou que "há garantia suficiente de (capacidade de produção da EUV) para atender à demanda do mercado" e "os planos para os próximos anos, como a Intel 3, foram determinados".A Intel 3 adotará o processo de 4 nm e está programado para ser lançado no segundo semestre deste ano.