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em 15/03/2024
Plano de alívio japonês para construir fábrica de substrato de embalagem de semicondutores em Cingapura e iniciar a produção em 2026
A TopPan Holdings anunciou em 14 de março que planeja construir uma fábrica de substratos de embalagem de semicondutores em Cingapura, com a produção programada para 2026. A empresa trabalhará com vários outros fabricantes de substratos japoneses para aumentar o investimento de capital no contexto da demanda em expansão por inteligência artificial.
O valor específico do investimento para a construção da fábrica não foi anunciado pelo Japão Topside, mas espera -se que seja de cerca de 50 bilhões de ienes (aproximadamente 2,43 bilhões de yuan).Espera -se que a fábrica crie 200 oportunidades de emprego, com um investimento total de mais de 100 bilhões de ienes no futuro à medida que a capacidade de produção aumenta.
É relatado que, embora a topografia do Japão tenha a parte principal do investimento inicial, devido ao seu principal cliente ser a gigante dos semicondutores americanos Broadcom, a Broadcom pode fornecer apoio financeiro à expansão futura da capacidade da Topografia do Japão no futuro.
Entende -se que as placas de alívio japonês atualmente produzem apenas substratos na fábrica de Niigata, no centro do Japão, e a fábrica planejada de Cingapura está mais próxima das empresas de processamento traseiro de semicondutores na Malásia, Taiwan, China, China, etc. O Japão Topside esperança aumentaCapacidade de produção para 150% do ano fiscal de 2022, expandindo sua fábrica de Niigata e construindo uma nova.
Os substratos de embalagem são materiais essenciais para chips semicondutores.De acordo com um relatório da Techno Systems Research, as empresas japonesas tiveram um desempenho particularmente bom no campo de substrato de embalagem de alto desempenho da FC-BGA, representando 40% da capacidade de produção global.
É relatado que o alívio japonês recebeu apoio do governo de Cingapura e da Broadcom em termos de localização da fábrica e recrutamento de pessoal em Cingapura.